RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Письма в Журнал технической физики
// Архив
Письма в ЖТФ,
1991
, том 17,
выпуск 13,
страницы
76–81
(Mi pjtf3888)
Влияние потока водорода на параметры слоев GaAs, выращенных методом жидкофазной эпитаксии
А. Я. Вуль
,
С. П. Вуль
,
С. В. Кидалов
Полный текст:
PDF файл (506 kB)
Реферативные базы данных:
©
МИАН
, 2024