RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 1991, том 17, выпуск 13, страницы 76–81 (Mi pjtf3888)

Влияние потока водорода на параметры слоев GaAs, выращенных методом жидкофазной эпитаксии

А. Я. Вуль, С. П. Вуль, С. В. Кидалов




Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024