О природе $p$-слоя, образующегося в области интерфейса полупроводниковых пластин при твердофазном прямом сращивании кремния (ПСК)

Е. В. Астрова, В. Б. Воронков, Ю. Н. Далуда, В. А. Козлов, А. А. Лебедев

Реферативные базы данных:

•