Применение маски As$_{2}$S$_{3}$/органический фоторезист для реактивного ионного травления полупроводников A(III)B(V)

С. А. Гуревич, А. В. Колобов, В. М. Любин, С. И. Нестеров, М. М. Кулагина, Ф. Н. Тимофеев, С. И. Трошков

Реферативные базы данных:

•