Два вида структуры плазменного канала в импульсном разряде высокого давления в цезии

На основе уравнений радиационной газодинамики выполнено моделирование импульсно-периодического разряда высокого давления в парах цезия. Показано, что в разряде возможна реализация двух различных видов структуры плазменного канала. В начале импульса тока плазменный канал разряда имеет центрированную структуру. При этом бо́льшая часть плазмы сосредоточена вблизи оси разряда. Концентрация заряженных частиц убывает вдоль радиуса. Затем, если амплитуда тока достаточно велика, в процессе нагрева плазмы происходит трансформация от центрированной к оболочечной структуре канала. При этом бо́льшая часть плазмы оказывается сосредоточенной на периферии разряда и ее концентрация возрастает вдоль радиуса от оси к стенкам трубки. Показано, что переход от одной структуры канала к другой происходит в момент времени, когда удельная теплоемкость плазмы вблизи оси достигает глубокого минимума, соответствующего полностью однократно ионизованной $e$–$i$-плазме.