RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2021, том 47, выпуск 19, страницы 51–54 (Mi pjtf4672)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Термодинамическая стабильность твердых растворов In$_{x}$Ga$_{1-x}$N

С. А. Кукушкинa, А. В. Осиповb

a Санкт-Петербургский государственный университет
b Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Выполнен теоретико-групповой анализ твердых растворов нитридов индия и галлия In$_{x}$Ga$_{1-x}$N (0 $<x<$ 1) и найдены все основные группы симметрии для данных растворов с составом $x$, представимым в виде рациональной дроби. Методом функционала плотности рассчитаны термодинамические потенциалы основных фаз. Показано, что при малых и больших $x$, т. е. при 0 $<x<$ 0.2 и 0.8 $<x<$ 1, имеется большое количество моноклинных фаз $Pm$ и $P2_{1}$, которые являются стабильными по отношению к распаду на InN и GaN при комнатной температуре. В интервале 0.2 $<x<$ 0.8 имеются лишь две стабильные орторомбические фазы Cmc2$_{1}$ с составами $x$ = 1/3 и 2/3. Рассчитаны все основные геометрические и термодинамические свойства различных фаз In$_{x}$Ga$_{1-x}$N. Установлено, что стабильность эпитаксиальных пленок In$_{x}$Ga$_{1-x}$N повышается при росте на InN и уменьшается при росте на GaN.

Ключевые слова: метод функционала плотности, полупроводники, твердые растворы, гетероструктуры.

Поступила в редакцию: 19.05.2021
Исправленный вариант: 20.06.2021
Принята в печать: 02.07.2021

DOI: 10.21883/PJTF.2021.19.51516.18879


 Англоязычная версия: DOI: 10.1134/S1063785022030075

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024