RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2021, том 47, выпуск 18, страницы 3–6 (Mi pjtf4673)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Светодиод на основе AlInGaN-гетероструктур, выращенных на подложках SiC/Si и технология его изготовления

Л. К. Марковa, С. А. Кукушкинb, И. П. Смирноваa, А. С. Павлюченкоa, А. С. Гращенкоc, А. В. Осиповb, Г. В. Святецd, А. Е. Николаевa, А. В. Сахаровa, В. В. Лундинa, А. Ф. Цацульниковae

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Институт проблем машиноведения РАН, г. Санкт-Петербург
c Санкт-Петербургский государственный университет
d OOO "Научно-технический центр "Новые технологии", Санкт-Петербург, Россия
e НТЦ микроэлектроники РАН, Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Описаны методика и технология изготовления как светодиодных чипов, так и корпусированных светодиодов из AlInGaN/GaN-гетероструктур, выращенных на подложках нового типа SiC/Si, синтезированных методом согласованного замещения атомов. Исследованы вольт-амперные характеристики, спектры излучения, зависимости мощности излучения и внешней квантовой эффективности от величины тока. Показано, что наличие пор в подложке SiC/Si, естественным образом формирующихся в процессе ее роста, приводит к значительному повышению квантовой эффективности светодиодов по сравнению с квантовой эффективностью светодиодов, изготовленных на кремнии без подслоя SiC.

Ключевые слова: светодиоды, светодиоды на кремнии, светодиоды на карбиде кремния на кремнии, карбид кремния на кремнии, гетероструктуры AlInGaN/GaN/SiC/Si.

Поступила в редакцию: 18.05.2021
Исправленный вариант: 18.05.2021
Принята в печать: 01.06.2021

DOI: 10.21883/PJTF.2021.18.51462.18877


 Англоязычная версия: DOI: 10.1134/S1063785022020043

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024