Сглаживание тонких поликристаллических пленок AlN кластерными ионами аргона

Исследована модификация поверхности тонких поликристаллических пленок нитрида алюминия с помощью бомбардировки ионно-кластерным пучком. Обработка проводилась высоко- (105 eV/atom) и низкоэнергетическими (10 eV/atom) кластерными ионами аргона. С помощью метода атомно-силовой микроскопии с применением спектральной функции шероховатости продемонстрировано высокоэффективное сглаживание наноструктурированной поверхности в широком диапазоне пространственных частот ($\nu$ = 0.02–128 $\mu$m$^{-1}$) при ультрамалой глубине травления ($<$ 100 nm).