Фотоотклик в мультислойном графене при прохождении поверхностной акустической волны

Исследован фотоотклик в мультислойном графене на кристалле ниобата лития (LiNbO$_{3}$) в условиях приложенного к графену электрического потенциала и пропускания поверхностной акустической волны. Показано, что акустоэлектрический ток в графене при облучении светом либо возрастает, либо уменьшается в зависимости от полярности приложенного к графену потенциала. Поверхностная акустическая волна вызывает появление в графене периодической решетки зарядов, усиливающей взаимодействие с падающим светом, что приводит к увеличению фотоотклика.