RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2019, том 45, выпуск 22, страницы 28–31 (Mi pjtf5264)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Необычный механизм релаксации напряжений несоответствия в тонких нанопленках

Е. М. Труханов, C. А. Тийс

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск

Аннотация: Установлен новый механизм релаксации напряжений несоответствия в нанопленках при изменении плотности поверхностных фаз. Он обеспечивается упорядоченным массопереносом атомов из напряженного атомного слоя. В процессе фазового перехода 7 $\times$ 7 $\to$ 5 $\times$ 5 в пленке Ge на Si(111) происходит частичная компенсация сжимающих напряжений на границе объемного кристалла и сверхструктуры за счет растягивающей деформации в неплотных слоях поверхностной фазы.

Ключевые слова: германий, механизм релаксации, сверхструктурный переход, массоперенос.

Поступила в редакцию: 24.05.2019
Исправленный вариант: 15.07.2019
Принята в печать: 05.08.2019

DOI: 10.21883/PJTF.2019.22.48645.17893


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2019, 45:11, 1144–1147

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024