Исследование формирования антиотражающего покрытия каскадных солнечных элементов

Выполнены исследования формирования антиотражающего покрытия каскадных солнечных элементов на основе гетероструктур А$_{3}$В$_{5}$. Изучены режимы обработки поверхности гетероструктур с использованием методов плазмохимического, жидкостного химического и ионно-лучевого травления. Разработана технология создания антиотражающего покрытия на основе слоев ТiO$_{x}$/SiO$_{2}$. Достигнуто улучшение параметров адгезии покрытия к поверхности гетероструктуры, а также снижение коэффициента отражения в каскадных солнечных элементах.