RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2019, том 45, выпуск 19, страницы 3–6 (Mi pjtf5299)

Эта публикация цитируется в 9 статьях

Изучение влияния легирования никелем кремниевых солнечных элементов с глубоким $p$$n$-переходом

М. К. Бахадырхановa, С. Б. Исамовa, З. Т. Кенжаевb, С. В. Ковешниковa

a Ташкентский государственный технический университет, Ташкент, Узбекистан
b Каракалпакский государственный университет, Нукус, Узбекистан

Аннотация: Показано, что легирование лицевой стороны солнечного элемента с глубоко залегающим $p$$n$-переходом атомами никеля приводит к увеличению значений плотности тока короткого замыкания $J_{sc}$ на 89% и напряжения холостого хода $V_{oc}$ на 19.7%. Дополнительная термообработка при 700$^\circ$C в течение часа приводит к росту $J_{sc}$ на 98.4% и $V_{oc}$ на 13.18%. Предполагается, что рост эффективности преобразования инфракрасного излучения происходит за счет формирования кластеров атомов никеля, являющихся геттерирующими центрами для неконтролируемых рекомбинационных примесей.

Ключевые слова: фотоэлемент, кремний, никель, легирование, термоотжиг, кластеры, коэффициент собирания, время жизни.

Поступила в редакцию: 03.06.2019
Исправленный вариант: 11.06.2019
Принята в печать: 13.06.2019

DOI: 10.21883/PJTF.2019.19.48307.17902


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2019, 45:10, 959–962

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024