RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2019, том 45, выпуск 18, страницы 48–51 (Mi pjtf5325)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Оптическое усиление в сильнолегированных структурах Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N : Si

П. А. Боханa, К. С. Журавлёвab, Д. Э. Закревскийa, Т. В. Малинa, И. В. Осинныхa, Н. В. Фатеевa

a Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск
b Новосибирский государственный университет

Аннотация: Экспериментально исследованы усилительные характеристики сильнолегированных структур Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N/AlN : Si c $x$ = 0.65 и 0.74 при импульсной оптической накачке излучением Nd : YAG-лазера с $\lambda$ = 266 nm. Абсолютные значения коэффициентов усиления в максимуме спектра люминесценции при комнатной температуре равны (0.5–6) $\cdot$ 10$^{3}$ сm$^{-1}$ при плотностях мощности возбуждения 8–600 kW/cm$^{2}$. Полученные значения сечений излучательной и донорно-акцепторной рекомбинации близки по величине и превышают 10$^{-16}$ сm$^{2}$.

Ключевые слова: сильнолегированные структуры Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N/AlN, усилительные свойства.

Поступила в редакцию: 27.05.2019
Исправленный вариант: 27.05.2019
Принята в печать: 13.06.2019

DOI: 10.21883/PJTF.2019.18.48239.17894


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2019, 45:9, 951–954

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024