Влияние разряда на температуру подложки при напылении пленки

Исследован процесс нагрева подложки на начальном этапе синтеза пленки методом катодного высокочастотного распыления мишени. С помощью оптического интерферометрического метода определена температура, до которой разогревается подложка при включении разряда. В рабочем режиме напыления пленки титаната бария-стронция на подложку оксида магния температура превышает тысячу градусов по шкале Цельсия.