RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2017, том 43, выпуск 12, страницы 83–89 (Mi pjtf6202)

Особенности протекания тока в структурах на основе барьера Шоттки Au/Ti/$n$-InAlAs

И. Б. Чистохин, М. С. Аксенов, Н. А. Валишева, Д. В. Дмитриев, К. С. Журавлев, А. А. Гузев

Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, г. Новосибирск

Аннотация: Исследованы вольт-амперные характеристики барьеров Шоттки Au/Ti/$n$-InAlAs/InP в температурном диапазоне 100–380 K. Показано, что при повышении температуры от 100 до 200 K коэффициент идеальности уменьшается от 1.58 до 1.1, а высота барьера повышается от 0.55 до 0.69 eV. При дальнейшем повышении температуры от 200 до 380 K коэффициент идеальности и высота барьера изменяются слабо. Такое поведение хорошо согласуется с моделью латеральной неоднородности высоты барьера (модель Танга), что подтверждается линейной зависимостью высоты барьера от коэффициента идеальности в диапазоне температур 100–200 K. В соответствии с этой моделью были рассчитаны значения высоты барьера гомогенного перехода 0.88 eV, среднеквадратичного отклонения 10$^{-4}$cm$^{2/3}$ $\cdot$ V$^{1/3}$ гауссова распределения высоты барьера, эффективной площади областей с пониженной высотой барьера 3.7 $\cdot$ 10$^{-11}$ cm$^{2}$ и постоянной Ричардсона 10.7 A $\cdot$ cm$^{-2}$ $\cdot$ K$^{-2}$.

Поступила в редакцию: 09.01.2017

DOI: 10.21883/PJTF.2017.12.44712.16700


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2017, 43:6, 581–583

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024