Аннотация:
Исследована кристаллизация тонких пленок аморфного гидрогенизированного кремния под действием импульсов фемтосекундного лазера. Обнаружено, что наблюдаемый эффект кристаллизации носит ярко выраженный пороговый характер и зависит от длины волны лазерного излучения. Показано, что наилучшие результаты кристаллизации достигаются при использовании длин волн лазерного излучения в диапазоне 740–760 nm.