RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2016, том 42, выпуск 8, страницы 61–69 (Mi pjtf6445)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Рентгеновская дифрактометрия темплейтов AIN/$c$-сапфир, полученных методом плазменно-активированной молекулярно-пучковой эпитаксии

В. В. Ратников, Д. В. Нечаев, В. Н. Жмерик, С. В. Иванов

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Методами рентгеновской дифрактометрии изучены темплейты AlN/$c$-сапфир, полученные плазменно-активированной молекулярно-пучковой эпитаксией. Продемонстрированы преимущества крупнозернистых нуклеационных слоев AlN, полученных с помощью высокотемпературной (780$^\circ$С) эпитаксии с повышенной миграцией ЭПМ адатомов. Использование 3.5-nm вставок GaN (при их 3D-росте в N-обогащенных условиях) позволило получить темплейты с незначительными остаточными макронапряжениями и относительно узкими полуширинами (FWHM) кривых дифракционного отражения 0002 и 10$\bar1$5.

Поступила в редакцию: 26.11.2015


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2016, 42:4, 419–422

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024