Моделирование процесса реактивного магнетронного распыления металлической (ванадиевой) мишени в высокомощном импульсном режиме

Представлена физико-химическая модель, описывающая процесс высокомощного импульсного реактивного магнетронного распыления металлической мишени. Повышение импульсной плотности мощности на мишени способствует ее разогреву, что приводит к увеличению эффективности распыления и возникновению потока испаренного вещества. Совокупность указанных эффектов приводит к увеличению скорости осаждения пленок сложных соединений. Приведены результаты моделирования процесса распыления ванадиевой мишени в среде Ar + O$_2$, продемонстрировавшие увеличение скорости распыления в 8.5 раз при увеличении плотности мощности от 0.5 до 1.5 kW/cm$^2$.