RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2024, том 50, выпуск 3, страницы 40–43 (Mi pjtf6603)

Формирование фазы Nb$_3$Sn путем обработки системы Nb+Sn импульсным электронным пучком

Ю. Н. Юрьевa, А. В. Юрьеваa, А. И. Савельевa, М. С. Воробьевb, П. В. Москвинb

a Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Томск, Россия
b Институт сильноточной электроники СО РАН, Томск, Россия

Аннотация: Исследована возможность обработки пленок Nb–Sn, осажденных на медную подложку методом магнетронного распыления, импульсным электронным пучком в источнике с плазменным катодом. Электронно-пучковая обработка покрытий приводит к формированию фазы Nb$_3$Sn. Пленки облучались с разной плотностью энергии пучка и длительностью импульса. Исследованы морфология поверхности и фазовый состав облученных пленок.

Ключевые слова: магнетронное распыление, пленки Nb$_3$Sn, электронный пучок, плазменный катод, электронно-пучковая обработка.

Поступила в редакцию: 27.09.2023
Исправленный вариант: 09.11.2023
Принята в печать: 09.11.2023

DOI: 10.61011/PJTF.2024.03.57043.19741



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025