Возможность получения имплантированных слоев большой толщины

В. Г. Абдрашитов, В. В. Рыжов, И. Ю. Турчановский

Институт сильноточной электроники СО АН СССР, Томск

Поступила в редакцию: 20.04.1987

Реферативные базы данных:

•