Износ острия зонда в зависимости от режима взаимодействия с поверхностью образца при работе в режиме амплитудно-модуляционной атомно-силовой микроскопии

Изучена зависимость износа острия зонда от режима силового взаимодействия с поверхностью образца при работе в режиме амплитудно-модуляционной атомно-силовой микроскопии. Найдено, что в режиме сил притяжения износ острия является незначительным в отличие от режима сил отталкивания. После десяти сканов жесткой и шероховатой поверхности пленок поликремния с полусферическими зернами (HSG-Si) в режиме притяжения радиус острия увеличился с 3 до 4 nm, а в режиме отталкивания – с 4 до 20 nm. Сделана оценка величины энергии диссипации за один период колебаний, которая составляла 2.1 eV в режиме притяжения и 98 eV в режиме отталкивания.