RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2023, том 49, выпуск 4, страницы 28–30 (Mi pjtf6918)

Ионно-плазменное осаждение многокомпонентных пленок с заданным законом распределения состава по толщине

А. Б. Козырев, В. А. Вольпяс, А. В. Тумаркин, А. Г. Алтынников, А. Е. Комлев, Р. А. Платонов, П. М. Трофимов

Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Предложен метод ионно-плазменного осаждения тонких многокомпонентных пленок с возможностью управления составом по толщине (graded film) при изменении давления рабочего газа по заданному закону. На примере структуры типа перовскита Ba$_x$Sr$_{1-x}$TiO$_3$ получены расчетные (моделирование методом Монте-Карло) и экспериментальные зависимости компонентного состава пленок Ba$_x$Sr$_{1-x}$TiO$_3$ и скорости их осаждения от давления рабочего газа. В качестве примера рассмотрена возможность напыления пленок Ba$_x$Sr$_{1-x}$TiO$_3$ с линейным распределением состава по толщине.

Ключевые слова: ионно-плазменное осаждение, тонкие многокомпонентные пленки, управление составом.

Поступила в редакцию: 14.11.2022
Исправленный вариант: 12.12.2022
Принята в печать: 14.12.2022

DOI: 10.21883/PJTF.2023.04.54523.19429



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025