RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2023, том 49, выпуск 23, страницы 62–64 (Mi pjtf7140)

Международная конференция ФизикА.СПб/2023

Влияние предварительной химической обработки на эффективность пассивации текстурированных кремниевых пластин

В. А. Поздеевab, А. В. Уваровa, А. С. Гудовскихa, Е. А. Вячеславоваab

a Санкт-Петербургский национальный исследовательский академический университет имени Ж. И. Алфёрова Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
b Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Исследовано влияние предварительной химической обработки поверхности методом RCA (Radio Corporation of America) и модифицированным методом Шираки на эффективное время жизни неравновесных носителей заряда перед пассивацией слоем аморфного гидрогенизированного кремния для кремниевых пластин, текстурированных с помощью различных методов травления, включая реактивное ионное травление с применением источника индуктивно-связанной плазмы и жидкостное травление. Показано преимущество модифицированного метода Шираки. Максимальное достигнутое значение эффективного времени жизни неравновесных носителей заряда для текстурированных реактивным ионным травлением с применением источника индуктивно-связанной плазмы пластин составило 400 $\mu$s, для пластин, текстурированных комбинированным жидкостным и ионным методом, – 500 $\mu$s.

Ключевые слова: фотоэлектрические преобразователи, кремний, аморфный кремний, черный кремний, пассивация, реактивное ионное травление.

Поступила в редакцию: 19.05.2023
Исправленный вариант: 31.07.2023
Принята в печать: 30.10.2023

DOI: 10.61011/PJTF.2023.23.56856.198A



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025