Формирование наноразмерных пленок золота в условиях многократного автооблучения при ионно-лучевом осаждении

Методом ионно-лучевого осаждения-распыления впервые получены однородные пленки золота толщиной несколько десятков нанометров на кремниевых и кварцевых подложках. Показано, что в условиях воздействия высокоэнергетической составляющей потока распыленных атомов происходит преимущественный латеральный рост наноразмерных слоев металла вдоль поверхности подложки. Решающую роль в формировании нанометровой пленки золота играют процессы упругого столкновения распыленных атомов металла с атомами подложки и растущей пленки. Применение операции многократного осаждения-распыления позволяет подавить процесс гранулирования и получить пленки золота с лучшими характеристиками, чем при однократном осаждении.