RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2022, том 48, выпуск 22, страницы 28–32 (Mi pjtf7445)

Исследование воздействия атомов H, N и O на квазидвумерный дисульфид молибдена

Д. В. Лопаевab, Д. Е. Мележенкоa, А. И. Зотовичa, Е. Н. Воронинаab

a Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына, Москва, Россия
b Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Москва, Россия

Аннотация: Представлены результаты экспериментального исследования воздействия атомов O, N и H на ультратонкие пленки MoS$_2$, демонстрирующие изменение свойств приповерхностного слоя образцов при такой обработке.

Ключевые слова: квазидвумерные материалы, дисульфид молибдена, плазма, радикалы, ионы, модификация поверхности.

Поступила в редакцию: 02.08.2022
Исправленный вариант: 29.09.2022
Принята в печать: 30.09.2022

DOI: 10.21883/PJTF.2022.22.53803.19330



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025