Исследование воздействия атомов H, N и O на квазидвумерный дисульфид молибдена
Д. В. Лопаев ab ,
Д. Е. Мележенко a ,
А. И. Зотович a ,
Е. Н. Воронина ab a Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына, Москва, Россия
b Физический факультет, Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова, Москва, Россия
Аннотация:
Представлены результаты экспериментального исследования воздействия атомов O, N и H на ультратонкие пленки MoS
$_2$ , демонстрирующие изменение свойств приповерхностного слоя образцов при такой обработке.
Ключевые слова:
квазидвумерные материалы, дисульфид молибдена, плазма, радикалы, ионы, модификация поверхности.
Поступила в редакцию: 02.08.2022
Исправленный вариант: 29.09.2022
Принята в печать: 30.09.2022
DOI:
10.21883/PJTF.2022.22.53803.19330
Реферативные базы данных:
© , 2025