Диэлектрические свойства наночастиц HfO$_2$, полученных лазерной абляцией

Методом импеданс-спектроскопии в диапазоне частот от 50 до 10$^5$ Hz определены диэлектрические свойства наночастиц HfO$_2$, аблированных импульсным лазерным излучением. Показано, что на диэлектрическую проницаемость влияет степень пористости слоя аблированных частиц. При уменьшении пористости действительная $\varepsilon'$ и мнимая $\varepsilon''$ компоненты диэлектрической проницаемости увеличиваются. На основе анализа в рамках приближения эффективной среды Бруггемана определена статическая диэлектрическая проницаемость полученных наночастиц HfO$_2$ $\varepsilon'$ = 24 $\pm$ 2.