RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Письма в Журнал технической физики
// Архив
Письма в ЖТФ,
1985
, том 11,
выпуск 4,
страницы
227–229
(Mi pjtf785)
Некоторые технологические аспекты диффузии серы в кремнии
Е. Г. Гук
,
А. В. Ельцов
,
С. Ф. Луизова
,
В. Б. Шуман
,
Т. А. Юрре
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, Ленинград
Поступила в редакцию:
19.11.1984
Полный текст:
PDF файл (353 kB)
Реферативные базы данных:
©
МИАН
, 2024