RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 1985, том 11, выпуск 4, страницы 227–229 (Mi pjtf785)

Некоторые технологические аспекты диффузии серы в кремнии

Е. Г. Гук, А. В. Ельцов, С. Ф. Луизова, В. Б. Шуман, Т. А. Юрре

Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, Ленинград

Поступила в редакцию: 19.11.1984



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024