RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2025, том 51, выпуск 12, страницы 43–45 (Mi pjtf7949)

Новый способ увеличения параметра мемристора $R_{off}/R_{on}$ на примере тонкопленочной структуры на основе оксида титана

А. Уразбеков, П. Е. Троян, Ю. В. Сахаров, М. А. Свириденко

Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия

Аннотация: Предложен способ увеличения параметра мемристора $R_{off}/R_{on}$ методом введения в его конструкцию дополнительного электрода меньшей площади, соединенного с нижним электродом. На примере мемристора на основе TiO$_x$ c алюминиевыми электродами показано, что данный способ позволяет увеличить $R_{off}/R_{on}$ не менее чем в 3 раза.

Ключевые слова: мемристор, резистивное переключение, кислородные вакансии, оксид титана, тонкопленочные структуры.

Поступила в редакцию: 27.01.2025
Исправленный вариант: 25.03.2025
Принята в печать: 25.03.2025

DOI: 10.61011/PJTF.2025.12.60613.20267



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025