RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2014, том 40, выпуск 7, страницы 49–55 (Mi pjtf8120)

Эта публикация цитируется в 8 статьях

Структурные свойства эпитаксиальных пленок твердого раствора (SiC)$_{1-x}$(AlN)$_x$, полученных магнетронным распылением составных мишеней SiC с Al

Ш. М. Рамазановabc, М. А. Курбановabc, Г. К. Сафаралиевabc, Б. А. Билаловabc, Н. И. Каргинabc, А. С. Гусевabc

a Дагестанский государственный университет, г. Махачкала
b Дагестанский государственный технический университет
c Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва

Аннотация: Новым способом получены эпитаксиальные слои твердого раствора (SiC)$_{1-x}$(AlN)$_x$ с составами $x\approx$ 0.12 и $x$ = 0.64 без макроскопических структурных искажений. Установлено, что зависимость параметров кристаллических решеток эпитаксиальных пленок от их состава подчиняется закону Вегарда с точностью $\sim$ 0.03. Это подтверждает образование твердых растворов изоморфного замещения в системе SiC–AlN.

Поступила в редакцию: 29.04.2013


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2014, 40:4, 300–302

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025