Волнообразные микроструктуры, формируемые на границе раздела SiO$_2$/Si при воздействии мощного ионного пучка

Исследовано образование волнообразных микроструктур на поверхности монокристаллического кремния со слоем собственного оксида различной толщины при воздействии мощного ионного пучка наносекундной длительности. Описаны морфологические особенности возникающих структур в зависимости от толщины слоя оксида и плотности тока ионного пучка. Рассмотрены возможные механизмы их формирования.