RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2013, том 39, выпуск 15, страницы 40–46 (Mi pjtf8561)

Эта публикация цитируется в 11 статьях

Зарядовое распределение ионов в плазме вакуумной дуги при малых токах

Г. А. Месяцab, Е. М. Оксab

a Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва
b Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск

Аннотация: Исследовано зарядовое распределение ионов вакуумной дуги для медных электродов при токах 8–60 A. Напряжение горения дуги при этом возрастало с 21 до 24 V. В плазме присутствуют ионы меди с зарядовыми состояниями от +1 до +4. Величина средней зарядности ионов увеличивается с 2.15 до 2.24, т. е. всего на 4% за счет небольшого увеличения долей многозарядных ионов (Cu$^{2+}$ и Cu$^{3+}$) в общем потоке ионов. Этот вывод не противоречит выводу эктонной модели катодного пятна вакуумной дуги, согласно которой с увеличением тока прямо пропорционально растет и число ячеек в пятне, образованных за счет микровзрывов на катоде.

Поступила в редакцию: 28.03.2013


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2013, 39:8, 687–689

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025