RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2012, том 38, выпуск 3, страницы 10–16 (Mi pjtf8754)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Способ уменьшения паразитной емкости вертикально-излучающего лазера с селективно-окисленной апертурой

А. М. Надточийabc, С. А. Блохинabc, А. Г. Кузьменковabc, М. В. Максимовabc, Н. А. Малеевabc, С. И. Трошковabc, Н. Н. Леденцовabc, В. М. Устиновabc, A. Mutigd, D. Bimbergd

a Санкт-Петербургский академический университет — научно-образовательный центр нанотехнологий РАН (Академический университет)
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c ООО "Коннектор Оптикс", г. Санкт-Петербург
d Institut for Festkorperphysik, Technische Universitat Berlin, Berlin Germany

Аннотация: Приведены результаты сравнительных исследований структурных параметров, статических и динамических характеристик вертикально-излучающих лазеров (VCSEL) с микрорезонаторами на основе Al$_{0.15}$Ga$_{0.85}$As и Al$_{0.8}$Ga$_{0.2}$As. Вследствие вертикального окисления слоев микрорезонатора Al$_{0.8}$Ga$_{0.2}$As при формировании оксидной токовой апертуры происходит значительное увеличение толщины оксида, приводящее к существенному уменьшению паразитной емкости прибора и увеличению в 1.7–2 раза частоты отсечки низкочастотного фильтра, образованного паразитными элементами электрической эквивалентной схемы.

Поступила в редакцию: 12.08.2011


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2012, 38:2, 106–109


© МИАН, 2025