RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2012, том 38, выпуск 4, страницы 18–25 (Mi pjtf8770)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Рост полупроводниковых нитевидных нанокристаллов при больших диффузионных длинах

В. Г. Дубровскийab, М. В. Назаренкоab

a Санкт-Петербургский академический университет
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Найдена универсальная асимптотика для закона роста нитевидного нанокристалла (ННК) в случае, когда диффузионная длина адатомов на поверхности подложки много больше радиуса ННК, а диффузионная длина на боковой поверхности много больше длины ННК. Определены основные стадии роста, характеризующиеся различными зависимостями длины ННК от радиуса и времени осаждения. Рассмотрены возможные асимпотические режимы эпитаксиального роста ННК: экспоненциальный рост и ограниченный рост до некоторой критической толщины, зависящие от направления диффузионного потока на боковой поверхности ННК.

Поступила в редакцию: 04.10.2011


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2012, 38:2, 164–167

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025