О возможности управления фазово-структурным и напряженным состояниями вакуумно-дуговых наноструктурных покрытий системы Mo–N путем подачи потенциала смещения на подложку в процессе осаждения

Рассмотрен эффект фазово-структурной и упругонапряженной неустойчивости при формировании вакуумно-дуговых покрытий системы Mo–N в условиях подачи потенциала смещения на подложку. Повышение потенциала смещения приводит как к формированию преимущественной ориентации [111] роста кристаллитов нитрида молибдена с кубической типа NaCl решеткой ($\gamma$-Mo$_2$N фаза), так и к появлению второй фазы с характерной для чистого молибдена кристаллической ОЦК-решеткой.
Упругодеформированное (напряженное) состояние покрытия определяется не только условиями осаждения, но и механическими свойствами подложки. Для достижения высоких значений упругодеформированного состояния необходимо осаждать на подложки с большим модулем упругости, что препятствует течению металла в межграничной области. Такие высоконапряженные покрытия с размером кристаллитов 9–14 nm обладают высокой твердостью, достигающей 45–50 GPa.