М. Э. Белоусов, Э. А. Ильичев, А. Е. Кулешов, Н. К. Матвеева, П. В. Минаков, Г. Н. Петрухин, Р. М. Набиев, Г. С. Рычков, “Маска для формирования микрорисунка на алмазной пленке”, Письма в ЖТФ, 2012, том 38, выпуск 5,страницы 49

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Маска для формирования микрорисунка на алмазной пленке

М. Э. Белоусов^ab, Э. А. Ильичев^ab, А. Е. Кулешов^ab, Н. К. Матвеева^ab, П. В. Минаков^ab, Г. Н. Петрухин^ab, Р. М. Набиев^ab, Г. С. Рычков^ab

^a Государственный научно-исследовательский институт физических проблем имени Ф. В. Лукина
^b Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, Научно-исследовательский институт ядерной физики им. Д. В. Скобельцына

Аннотация: Рассматривается технология формирования масок для травления алмазных пленок. Предлагаемая технология позволяет осуществить высокоточную литографию на алмазных пленках с площадью до 10$^4$ mm$^2$. Минимальные размеры, которые могут быть при этом реализованы, определяются только уровнем литографии, достигнутой для кремниевых интегральных схем. Предлагаемая технология может быть использована для разработки уникальных приборов, в том числе и биосенсора для расшифровки генома человека.

Поступила в редакцию: 21.06.2011