Влияние кластеризации потока на толщину пленок, осажденных при магнетронном и импульсном лазерном распылении металлооксидов

Изучена связь между кластеризацией потока вещества и толщиной пленок при магнетронном и импульсном лазерном распылении мишеней La$_{0.7}$Sr$_{0.3}$MnO$_3$ и YBa$_2$Cu$_3$O$_{7-\delta}$. Установлено, что для магнетронного распыления из-за низкой концентрации атомов (ионов) распыленного материала кластеризация потока в эксперименте не выявляется. В соответствии с расчетом для случая невзаимодействующих атомов наблюдается экспоненциальное уменьшение толщины пленок $(h)$ с увеличением расстояния от мишени $(L)$. Для импульсного лазерного распыления, при котором концентрация распыленного вещества в плазме на 4 порядка выше, наблюдается резкое отклонение зависимости $h(L)$ от расчетной при расстояниях от мишени, больших 6.2 cm, что обусловлено началом интенсивной кластеризации потока лазерной плазмы.