Аннотация:
Предложен плазменный эмиттер большой площади, в котором возможно управление распределением плотности тока по поверхности эмиттера по двум координатам: радиусу и полярному углу. Управление осуществляется путем регулировки токов вспомогательного и основного разрядов угла наклона электродов составного анода и их потенциалов. Эмиттер прошел испытания на промышленной установке вакуумного напыления и был использован для ионной очистки подложек тонкопленочных микроплат.