RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Письма в Журнал технической физики // Архив

Письма в ЖТФ, 2009, том 35, выпуск 7, страницы 35–40 (Mi pjtf9874)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Модификация приповерхностных слоев фоточувствительных стекол при электронно-лучевой обработке

Н. В. Никоноровabc, А. И. Сидоровabc, В. А. Цехомскийabc, А. В. Нащекинabc, О. А. Усовabc, О. А. Подсвировabc, С. В. Поплёвкинabc

a Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
b Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
c Санкт-Петербургский государственный политехнический университет

Аннотация: Электронно-лучевая обработка фоточувствительных силикатных стекол, содержащих ионы серебра или меди, приводит к формированию в приповерхностном слое металлических наночастиц. Характеристики этого слоя зависят от типа ионов металла, предварительной и последующей термообработки, а также от распределения заряда и условий стока электронов по поверхности. Пространственный профиль распределения заряда может приводить к формированию линзоподобных структур толщиной 200–400 nm.

Поступила в редакцию: 31.07.2008


 Англоязычная версия: Technical Physics Letters, 2009, 35:4, 309–311

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2026