RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1980, том 7, номер 7, страницы 1461–1465 (Mi qe10344)

Влияние толщины активной области на температурную зависимость порогового тока в гомолазерах

И. М. Цидулко

Физико-технический институт им. С. У. Умарова, Душанбе

Аннотация: Приведен расчет температурной зависимости порогового тока (ТЗПТ) с учетом потерь, вызванных утечкой электронов из активной области гомолазеров. В расчете использовалась экспоненциальная модель плотности верхних состояний. Показано, что ТЗПТ зависит от степени пространственного перекрытия полем (с параметром $S$) области инжекции носителей (с параметром $L$), характеризуемой величиной $R=S/\pi L$. Если $R\ll1$, то ТЗПТ приближается к степенной функции, а при $R>1$ ТЗПТ имеет сверхэкспоненциальный вид.

УДК: 621.373.826.038.825.4

PACS: 42.55.Px

Поступила в редакцию: 11.12.1979


 Англоязычная версия: Soviet Journal of Quantum Electronics, 1980, 10:7, 841–844

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024