RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1998, том 25, номер 1, страницы 31–35 (Mi qe1131)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Повышение температуры лазерной плазмы при двухчастотном УФ-ИК воздействии на металлические мишени

А. А. Антипов, А. З. Грасюк, С. В. Ефимовский, С. В. Курбасов, Л. Л. Лосев, В. И. Сосков

Физический институт им. П. Н. Лебедева Российской академии наук, г. Москва

Аннотация: Экспериментально исследована лазерная плазма, полученная в результате последовательного облучения металлической мишени 30-пикосекундными УФ и ИК лазерными импульсами. УФ предымпульс с длиной волны 266 нм имел относительно низкую интенсивность (~1012 Вт/см2); интенсивность ИК импульса с длиной волны 10.6 мкм была значительно более высокой (~3·1014 Вт/см2) и он был задержан на 0 – 6 нс (оптимальная задержка составляла 2 нс). Установлено, что при таком двухчастотном УФ-ИК воздействии электронная температура образующейся лазерной плазмы в 5 раз выше, чем при одночастотном воздействии ИК импульсом с той же интенсивностью ~3.1014 Вт/см2.

PACS: 52.25.Kn, 52.70.Ds, 52.50.Jm

Поступила в редакцию: 13.06.1997


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1998, 28:1, 29–32

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024