С. В. Гарнов, С. М. Климентов, В. И. Конов, Т. В. Кононенко, Ф. Даусингер, “Особенности плазменной экранировки при абляционном формировании глубоких каналов высокоинтенсивным лазерным излучением”, Квантовая электроника, 25:1 (1998), 45

Эта публикация цитируется в 13 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Особенности плазменной экранировки при абляционном формировании глубоких каналов высокоинтенсивным лазерным излучением

С. В. Гарнов^a, С. М. Климентов^a, В. И. Конов^b, Т. В. Кононенко^b, Ф. Даусингер^c

^a Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, г. Москва
^b Центр естественно-научных исследований Института общей физики РАН, Москва
^c Institut für Strahlwerkzeuge, Universität Stuttgart, Germany

Аннотация: Измерение скоростей лазерного травления различных материалов интенсивным (до 10¹⁴ Вт/см²) импульсным излучением продемонстрировало существенное снижение эффективности травления при формировании глубоких аблированных каналов. Измерены оптические характеристики образующегося плазменно-парового факела. На основании этих измерений и численных оценок предложены два возможных физических механизма дополнительной экранировки, вызванной взаимодействием со стенками канала: ограничение радиального разлета плазмы и увеличение ее плотности за счет испарения материала стенок переизлучением плазменной области.

PACS: 42.62.Cf, 52.40.Hf, 52.40.Nk

Поступила в редакцию: 01.08.1997