RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2006, том 36, номер 2, страницы 169–173 (Mi qe13119)

Эта публикация цитируется в 13 статьях

Применения лазеров и другие вопросы квантовой электроники

Планарная эксилампа на хлоридах инертных газов с накачкой поперечным самостоятельным разрядом

А. Н. Панченко, В. Ф. Тарасенко

Институт сильноточной электроники СО РАН, г. Томск

Аннотация: Приведены конструкция и параметры излучения источника УФ и ВУФ спонтанного излучения – эксилампы, работающей на молекулах хлоридов инертных газов ArCl*, KrCl* и XeCl* в диапазоне длин волн 175–308 нм. Для возбуждения смесей Ne–Xe (Kr, Ar)–HCl использовался самостоятельный разряд высокого давления с искровой предыонизацией. Показано, что при накачке поперечным разрядом смесей инертных газов и галогенов интенсивности свечения полосы В–Х молекул ArCl*, KrCl* и XeCl* сравнимы, и до 90% энергии излучения экcиламп может быть сконцентрировано в УФ области спектра. Пиковая плотность мощности УФ излучения на λ = 222 и 308 нм на поверхности выходного окна эксилампы составляла ~2 кВт/см2 при энергии в импульсе до ~3 мДж. Энергия излучения на λ=175 нм на выходе эксилампы достигала ~0.6 мДж при пиковой плотности мощности ~0.4 кВт/см2.

PACS: 52.80.Hc, 42.55.Lt, 42.60.Lh

Поступила в редакцию: 03.10.2005


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2006, 36:2, 169–173

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024