RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2006, том 36, номер 7, страницы 624–637 (Mi qe13181)

Эта публикация цитируется в 11 статьях

Специальный выпуск, посвященный 90-летию академика А.М.Прохорова

Механизм лазерного сверления сверхвысокоаспектных отверстий в полимерах

В. Н. Токарев

Центр естественно-научных исследований Института общей физики РАН, Москва

Аннотация: Дан краткий обзор недавних работ по теоретическому и экспериментальному изучению многоимпульсного лазерного сверления глубоких отверстий в полимерах. Стационарный профиль глубокого отверстия достигается после воздействия достаточно большого числа импульсов в результате процессов самоорганизации и является новым более устойчивым состоянием поверхности в поле интенсивного излучения. Эти представления совместно с обширными экспериментальными данными, полученными при использовании разнообразных полимеров, позволяют построить аналитическую теоретическую модель многоимпульсного сверления отверстий со сверхвысоким (300–600) отношением глубины к диаметру (так называемым аспектным отношением) излучением УФ эксимерного KrF-лазера. Модель дает возможность в простой форме выявить основные факторы, управляющие параметрами многоимпульсного наносекундного УФ лазерного сверления, в частности определить аналитические условия получения отверстий с практически параллельными боковыми стенками и очень высокими аспектными отношениями.

PACS: 42.62.Cf

Поступила в редакцию: 03.04.2006
Исправленный вариант: 25.05.2006


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2006, 36:7, 624–637

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024