Аннотация:
Исследовано поведение высокочистого флюорита и кварцевых стекол типа КУ-1, КС-4В и Corning 7980 при воздействии электронного пучка и излучения KrF-лазера. Облучение образцов оптических материалов этим лазерным излучением при интенсивностях ~5 МВт/см2 как в момент воздействия электронного пучка, так и после него приводит к уменьшению остаточного поглощения не менее чем в 1.5 раза.