Cпектры, временная структура и угловая направленность генерации в кристалле Yb:YAG и в иттербиевом стекле при накачке низкокогерентным излучением лазера на центрах окраски LiF:F2+

При фокусировке излучения лазера на центрах окраски LiF:F₂⁺ (спектральный диапазон 0.89 — 0.95 мкм) на пластины из кристалла Yb:YAG с 20%-ной концентрацией активатора и иттербиевого стекла с 10%-ной концентрацией активатора наблюдались наносекундные импульсы излучения ионов Yb³⁺ в спектральной области 1.0 — 1.06 мкм с шириной спектра до 20 нм в Yb:YAG и до 50 нм в иттербиевом стекле. Генерация возникала в активной среде в области возбуждения ВРМБ излучения накачки диаметром менее 200 мкм. Угловая расходимость широкополосного лазерного излучения (10^-3 — 10^-4 рад) была на 1 — 2 порядка меньше дифракционного предела. Обсуждается механизм возникновения коротких импульсов остронаправленной широкополосной генерации в пространственной структуре тонких слоев с инверсией, возникающей в области распространения интенсивных акустических волн в среде. Интерпретация экспериментальных данных по угловой расходимости излучения основывается на новом представлении распределения электромагнитного поля фотона в пространстве не в форме бегущей волны, а с фиксированным по направлению распространения расположением структур поля. Рассматриваются особенности временной картины и спектров узкополосной линейчатой генерации в кристалле Yb:YAG и в иттербиевом стекле в резонаторе при релаксации области возбуждения ВРМБ в активной среде. Обсуждается возможность диагностики параметров среды по сдвигу спектров генерации на модах резонатора в различных участках области возбуждения ВРМБ.