RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2008, том 38, номер 11, страницы 1078–1082 (Mi qe13723)

Применения лазеров и другие вопросы квантовой электроники

Наноразмерный рельеф: от фазовых масок до антиотражающих структур на кварце и кремнии

Ю. К. Верёвкинa, А. Ю. Климовa, Б. А. Грибковa, В. Н. Петряковa, Е. В. Копосоваa, С. М. Олайзолаb

a Институт прикладной физики РАН, г. Нижний Новгород
b Centro de Estudios e Investigaciones Technical de Guipuzcoa, Donostia-San Sebastian, Spain

Аннотация: С использованием интерференции импульсного излучения и полного цикла литографии созданы фазовые маски на кварце и антиотражающие структуры на кварце и кремнии. При помощи компьютерной программы на основе строгого решения интегрального уравнения рассчитано пропускание гофрированной границы вакуум — твёрдое тело для параметров, близких к параметрам экспериментальных структур. Результаты измерений достаточно хорошо согласуются с расчётами. Разработанные методы могут быть полезны для создания оптических и полупроводниковых устройств.

PACS: 81.16.Nd, 81.16.Rf

Поступила в редакцию: 21.08.2007
Исправленный вариант: 01.04.2008


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2008, 38:11, 1078–1082

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024