RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2010, том 40, номер 12, страницы 1141–1145 (Mi qe13990)

Эта публикация цитируется в 5 статьях

Интерферометрия

Высокочувствительный интерферометрический контроль дифракционных элементов

А. М. Ляликов

Гродненский государственный университет им. Я. Купалы

Аннотация: Показана перспективность применения интерферометрии большого бокового сдвига для контроля качества дифракционных элементов. При этом используются два дифракционных элемента, один из которых является исследуемым, а другой — эталонным. Предложено универсальное устройство, позволяющее контролировать качество дифракционных элементов как пропускающего, так и отражательного типа. Приведены результаты экспериментальной реализации методики для контроля качества изготовления двумерных амплитудных масок и отражательных дифракционных решеток.

PACS: 42.87.Bg, 42.79.Dj

Поступила в редакцию: 21.10.2008
Исправленный вариант: 12.10.2010


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2010, 40:12, 1141–1145

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024