RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 2010, том 40, номер 9, страницы 811–816 (Mi qe14306)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Исследование параметров форплазмы лазерно-плазменного диода

Ю. В. Коробкинa, А. И. Лебоa, И. Г. Лебоab

a Московский государственный институт радиотехники, электроники и автоматики (технический университет)
b Научно-исследовательский институт системных исследований РАН, г. Москва

Аннотация: Представлены результаты вычислительных экспериментов, позволяющие оценить параметры лазерной форплазмы, инициирующей разряд в лазерно-плазменном диоде. Образующаяся плазма является материальной средой, через которую пропускается мощный разряд. Это дает возможность создать компактный источник жесткого рентгеновского излучения и потоков быстрых ионов. На основании численных расчетов выведены соотношения подобия, позволяющие определять потоки массы и заряда плазмы в зависимости от параметров лазерного импульса.

PACS: 52.38.Ph, 52.50.Jm, 52.59.-f

Поступила в редакцию: 11.03.2010
Исправленный вариант: 15.04.2010


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 2010, 40:9, 811–816

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024