Аннотация:
Предложен новый метод получения большеразмерных, одинаковых по толщине тонких пленок на вращающейся подложке. Его отличительными особенностями являются расположение диафрагмы, пропускающей часть испаренного материала, между мишенью и подложкой, а также движение вращающейся подложки относительно мишени с определенной скоростью. Метод позволяет получать одинаковые по толщине тонкие пленки на подложках, размеры которых ограниченны только размерами напылительной камеры. Экспериментальная проверка метода проводилась путем напыления тонких пленок CuO на кремниевые подложки, расположенные по радиусу диска диаметром 300 мм. Отклонение толщины пленки от среднего значения не превышало ±3% по всему радиусу диска, что подтверждает несомненную перспективность применения предложенного метода в микроэлектронике, оптической промышленности и в других современных технологиях.