Спектральные проявления висмутовых центров на разных стадиях процесса FCVD

Исследовано поведение ионов висмута в не содержащем других легирующих добавок кварцевом стекле на различных технологических этапах метода FCVD (furnace chemical vapor deposition). Осуществлено спектроскопическое и рентгенофазовое исследование пористых слоев, отожженных и остеклованных в разных атмосферах, раствора хлорида висмута в ацетоне, использующегося для пропитки пористого слоя, а также итоговой заготовки и дырчатых световодов, вытянутых в различных условиях. Вытяжка в восстановительных условиях сохраняет присутствующие в заготовке висмутовые активные центры, люминесцирующие в видимой и ИК областях длин волн, а вытяжка в окислительных условиях приводит к исчезновению этих центров. Показано, что отжиг в восстановительных условиях световодов, вытянутых в окислительных условиях, приводит к образованию полос поглощения висмутовых ИК центров (ВИКЦ) и одновременному росту фоновых потерь. В реализованных условиях отжига (атмосфера аргона, Т_max = 1100 °С, продолжительность 30 мин) концентрация ВИКЦ достигает максимума и начинает убывать, тогда как фоновые потери только увеличиваются.