RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Квантовая электроника // Архив

Квантовая электроника, 1999, том 27, номер 2, страницы 154–158 (Mi qe1503)

Эта публикация цитируется в 101 статьях

Воздействие лазерного излучения на вещество. Лазерная плазма

Тепловая модель импульсной лазерной абляции в условиях образования и нагрева плазмы, поглощающей излучение

А. В. Булгаков, Н. М. Булгакова

Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе Сибирского отделения Российской академии наук, г. Новосибирск

Аннотация: Предложена модель для описания динамики поглощения излучения плазмой, образованной при испарении твердого вещества наносекундными лазерными импульсами умеренной интенсивности, когда реализуется тепловой режим абляции. Модель учитывает неизотермичность плазмы, нагревающейся в течение импульса вследствие поглощения излучения, и позволяет рассчитать баланс лазерной энергии. Проведены измерения испаренной массы и ослабления излучения при лазерной абляции графита и получено хорошее согласие с результатами расчетов.

PACS: 79.20.Ds, 52.50.Jm, 61.82.Ms

Поступила в редакцию: 28.12.1998


 Англоязычная версия: Quantum Electronics, 1999, 29:5, 433–437

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024